Công nghệ lắng đọng hơi vật lý (Physical Vapor Deposition, PVD) là công nghệ sử dụng các phương pháp vật lý trong điều kiện chân không để hóa hơi bề mặt của nguồn vật liệu (rắn hoặc lỏng) thành các nguyên tử hoặc phân tử khí, hoặc ion hóa một phần thành ion, và đi qua khí áp suất thấp (hoặc plasma). Quá trình này là công nghệ lắng đọng một lớp màng mỏng có chức năng đặc biệt trên bề mặt vật liệu nền, và lắng đọng hơi vật lý là một trong những công nghệ xử lý bề mặt chính. Công nghệ phủ PVD (lắng đọng hơi vật lý) chủ yếu được chia thành ba loại: phủ bay hơi chân không, phủ phún xạ chân không và phủ ion chân không.
Sản phẩm của chúng tôi chủ yếu được sử dụng trong quá trình phủ bốc hơi nhiệt và phủ phún xạ. Các sản phẩm được sử dụng trong quá trình lắng đọng hơi bao gồm dây vonfram, thuyền vonfram, thuyền molypden và thuyền tantali. Các sản phẩm được sử dụng trong quá trình phủ chùm tia điện tử bao gồm dây vonfram catốt, nồi nấu đồng, nồi nấu vonfram và các bộ phận gia công molypden. Các sản phẩm được sử dụng trong quá trình phủ phún xạ bao gồm bia titan, bia crom và bia titan-nhôm.
